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专精特新TOP100]南大光电:打破技能独占稳步推动国产代替 半导体资料多元布局已成气候

发布时间:2022-09-16 11:14:44 来源:ayx娱乐平台官网

  导言:跟着我国经济开展进入愈加注重质量与立异的新时代,一批“专业化、精细化、特征化、新颖化”的企业逐步成为我国立异的发源地,资本商场的开展也在与时俱进,北交所建立的中心方针之一便是为“专精特新”中小企业服务。为此,新浪财经在浙商证券研讨所战略研讨团队供给的榜单数据支撑根底上,推出“专精特新TOP100”系列报道,旨在外绝一批主经营务聚集,立异才能强,生长性高,专心于细分商场的小伟人。

  2021年半年报显现,南大光电完结经营收入4.42亿元,同比增加 69.14%;归归于上市公司股东的净赢利 8552.02 万元,同比下降 3.23%;考虑到上年同期出售参股公司股权承认的投资收益的一次性要素,主营赢利的实际增加快速,上半年归归于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净赢利 6587.35 万元,同比增加 4013.99%。

  南大光电是一家专业从事先进电子资料高新技能企业,三大事务别离为先进前驱体资料、电子特气和光刻胶。

  MO源是光电工业的支撑资料之一,其纯度、品质对终究的光电器材或高频器材的质量和功能起着决议性效果。 MO源即高纯金属有机源,是使用先进的金属有机化学气相堆积(以下简称“MOCVD”)工艺生成化合物半导体资料的要害支撑原资料,因而又被称为MOCVD的“前驱体”。 MO源的质量直接决议了终究器材的功能,因而MOCVD工艺对MO源的质量要求很高,其间纯度是衡量MO源质量的要害目标。

  这个职业历史上一度归于国外独占。2000 年南大光电成立时依托公司创始人孙祥祯先生的研制效果,公司 MO 源成功完结工业化,打破国外在这一光电子原资料范畴的独占位置。

  MO源职业具有寡头独占商场特征。现在全球范围内MO源的出产厂商较少,只要我国、美国、欧洲、日本四个区域的少量几个公司具有工业化出产的才能。

  公司是全球首要的MO源出产商,在国内商场处于领导位置。南大光电生长为全球 MO源首要出产商,全球市占率超越 40%,在 MO 源的组成制备、纯化技能、剖析检测、封装容器等方面已全面到达国际先进水平。

  南大光电在MO源的组成制备、纯化技能、剖析检测、封装容器等方面已全面到达国际先进水平,首要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等,产品的纯度大于等于6N,能够完结MO源产品的全系列配套供给,一起能够依据客户需求供给定制产品服务,在剧烈的商场竞赛中,具有显着的竞赛优势。

  与此一起,南大光电的组成环节选用共同的合金法,该办法和卤化物法比较工艺简略,质料无腐蚀性,副产物少,且价格便宜,有用处理 MO 源污染严峻的问题。

  公司自 2017 年后 MO 源三甲基镓、三甲基铟占主经营务比重逐年下降,公司依靠 LED 职业景气量的状况得到改进,特气事务有用弥补了因 LED职业下行带来的 MO 源增速减缓。

  本年半年报显现,特气产品已经是公司收入榜首大奉献源,且毛利率也较高,详细如下图:

  公司为了躲避职业波动性,开端活跃向其他半导体资料范畴布局,包括全椒南大光电磷烷、砷烷产品的开发,收买飞源气体布局含氟特气事务,以及正在研制工业化傍边的 ArF 光刻胶项目。

  在磷烷、砷烷产品方面,公司自 2013 年起立项攻关,在 2016 年完结一期量产,年产 35 吨高纯磷烷、15吨高纯砷烷,产品纯度均到达 6N 规范以上级。依据相关信息显现,现在公司已占有国内 75%商场份额,并进入英特尔、欧司朗、飞利浦等一流公司供给商名录。

  在氢类电子特气范畴,公司打破了国外技能封闭和独占,成功完结了国产磷烷、砷烷的工业化,完结进口代替,并快速占有国内商场份额,因而南大光电是国产磷烷、砷烷制作的领军企业。

  飞源气体方面,比较其他竞赛对手具有本钱优势和客户认证优势。依据揭露信息显现,本钱端国内首要竞赛对手榜首套 NF3 设备的总投资规划从 2.7 亿元/千吨到 4 亿元/千吨不等,职业中位数3.1 亿元。而飞源气体的 NF3 一套设备总投资远低于上述水平。现在,已成为国内集成电路及平板显现范畴多家领军企业的重要供给商。

  光刻胶方面,公司正在自主研制和工业化的ArF光刻胶(包括干式及浸没式)能够到达90nm-14nm的集成电路工艺节点,将完结高端光刻胶资料的进口代替,提高国家要害资料范畴自主可控水平,处理“卡脖子”技能难题。

  值得一提的是,2017及2018年,公司别离取得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品要害技能研制”和“ArF光刻胶产品的开发和工业化”项目的正式立项。经过几年的组织建设和技能攻关,上述项目别离于2020年5月和2021年7月经过国家02专项专家组的检验。

  此外,公司是国内ArF光刻胶研制和工业化的抢先企业。 2020年12月,公司研制的ArF光刻胶产品在一家存储芯片制作企业的50nm闪存平台上经过认证,成为国内经过产品验证的榜首只国产ArF光刻胶,陈述期内又在一家逻辑芯片制作企业55nm技能节点的产品上取得了认证打破,为ArF光刻胶的规划化量产奠定根底。公司正在活跃推动客户验证和量产作业,相关配套资料工业化也在稳步推动。


 
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